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一种原花青素B2分子印迹聚合物及其制备方法和应用[授权发明专利CN201610377672.3]

来源:原创    更新时间:2020-02-14 15:16:54    浏览:5042
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♚本研制是指分子结构印子汇聚物高技术研究方向,具体情况包括那种原花青素B2轻金属配位原子核印刷痕迹汇聚物简述制法方式方法和用途。本发明权用将原花青素B2、金属件无机化合物与性能一人在液体中混合式,再加上入交连剂和引致剂,在保护性气味中做好整合反映,之后对整合物做好过柱、低温干燥后,刷快原花青素B2合金材料配位分子结构痕印缔合物。并能够固相浓缩,将制取的缔合物成为活性炭过滤器,用做原花青素B2如何快速、优质的剥离 纯化。本研制的配制方式 简约、稳定,得到的原子印记配位高分子化合物拥有很强的特异选定 性和较高的收回率,在原花青素的剥离 纯化范围用途未来发展辽阔。

专利技术权人:湖南省省物理理工大学使用无机化学深入分析所

造出人:熊伟;李雄辉;王慧宾;付建平;韩晓丹;胡居吾;徐国良;邓朝阳区

认识人:刘卓荣  联系电话:0791-88177006,13177821807


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